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芯片制造获重大突破

1998-08-11 来源:光明日报 路云 我有话说

8月3日,IBM在纽约宣布,该公司完善了高速晶体管的生产工艺,这种晶体管可用于生产服务器和主机所需的高性能微型芯片,以及电池驱动手提式设备所需的节能型芯片。这项被称为“绝缘体硅”的技术是芯片生产方式的一大飞跃。

目前,芯片的集成度是用芯片上两个晶体管之间的距离来衡量的,这个距离称为线宽。随着芯片加工技术的进步,目前比较先进的芯片线宽已只有0.18微米到0.25微米,在这个距离上电流就会干扰晶体管工作,进而影响整块芯片的性能。IBM独有的SOI技术采用一个绝缘“覆盖涂层”来保护芯片上几百万个微小的晶体管,减少那些消耗能量和阻碍机器性能的有害电效应。IBM的工程师们已经制造出性能提高35%的SOI芯片,这就意味着将可制造速度更快的计算机和实现更高的通讯速度。例如,原设计运行速度400MHz的微处理器,如果用SOI技术制造,速度可以超过500MHz。

SOI芯片的能耗只有目前芯片的1/3。芯片运行所需能量消耗降低之后,可以大大延长蜂窝电话、手提电脑、个人数字辅助设备等便携产品所用电池的寿命。IBM相信,SOI技术能耗低的优点,是未来制造多功能、便携式的各种“信息仪器”的关键。

为了满足电子产品日趋多样化对芯片技术的要求,技术界15年来一直在研究绝缘体硅。IBM技术上的突破使它可以大批量生产SOI芯片。IBM打算明年将SOI技术用于芯片产品。

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